Yazar "Şahin, Bünyamin" seçeneğine göre listele

Listeleniyor 1 - 2 / 2
  • [ X ]
    Öğe
    PECVD Tekniği ile Büyütülmüş İnce Filmlerde Oluşan Ge ve SiGe Nanokristallerin Geçirgen Elektron Mikroskobu (TEM) ,Raman ve Fotoışıma Spektroskopisi Teknikleri ile İncelenmesi
    (Kırıkkale Üniversitesi, 2010) Şahin, Bünyamin; Ağan, Sedat
    Yaptığımız bu deneysel çalışmada; SiOx yapı içerisinde oluşturulmuş Ge ve SiGe nanokristalleinin optiksel ve elektriksel özelliklerini TEM, Raman ve Fotoışıma spekroskopileri teknikleri yardımıyla araştırdık. SiOx yapı içerisindeki Ge nanokristaller farklı tavlama sürelerinde Plazma ile hızlandırılmış kimyasal buharlatırma tekniği (PECVD yardımıyla oluşturuldu. Çalışmamızın amacı SiOx yapı içerisindeki Ge ve SiGe nanokristallerin boyut ve boyut dağılımlarını tavlama sürecine bağlı olarak araştırmaktır. TEM, Raman ve Fotoışıma ölçümleri yardımıyla nanokristallerin karakteri
  • Küçük Resim
    Öğe
    PECVD tekniği ile büyütülmüş ince filmlerde oluşan Si, Ge ve SiGe nanokristallerin geçirgen elektron mıkroskobu (TEM), Raman, fotoışıma ve esr spektroskopisi teknikleri ile incelenmesi
    (Kırıkkale Üniversitesi, 2010) Şahin, Bünyamin; Ağan, Sedat
    Bu çalışmada, güncel teknolojik uygulamalarda bir çok araştırmacının dikkatlerini üzerine çekmeyi başaran nano boyutlarda malzeme üretimi amaçlandı. Bu doğrultuda, Plazma Destekli Kimyasal Buharlaştırma Tekniği (PECVD) yardımı ile ince filmler büyütüldü. Büyütülen bu filmler daha sonra nanokristallerin oluşabilmesi için farklı sürelerde ısıl tavlanma işlemine tabi tutuldu. SiO2 film içerisinde tavlama sonucu oluşan Si, Ge ve SiGe alaşımlı nanokristallerinin boyut ve boyut dağılımına ilişkin yapısal özellikleri TEM ve Raman spektroskopi teknikleri yardımıyla incelendi. Ge nanokristal içeren silisyum oksit (SiO2) ince filmler GeH4, SiH4 ve N2O gazlarının farklı akış oranları kullanılarak plazma ortamında büyütüldü. Raman spektroskopisi yardımı ile farklı gaz akış oranlarında büyütülmüş filmlerde ve farklı sürelerdeki tavlamalarda Ge nanokristallerin oluşturulabileceği görüldü. Oluşturulan bu nanokristallerin boyutlarının gaz akış oranı ile tavlama süresine bağlı olduğu çalışmada gösterildi. Ayrıca SiO2 film içerisinde tavlama sonucu oluşan nanokristallerinin optiksel özelliklerine ilişkin olarak fotoışıma ölçümleri alındı. Aynı zamanda bu numunelerdeki yapı kusurlarının varlığını tespit etmek amacıyla g-ışınları yardımıyla numunelerin Elektron Spin Rezonans (ESR) ölçümleri yardımıyla nanokristaller içindeki kırık bantlar ve kusurlar ile g-değerlerinin ölçülmesi sonucu kusur merkezlerinin yoğunluğu belirlendi. Elde edilen tüm bu sonuçlar literatürle karşılaştırıldı ve uyum içerisinde olduğu görüldü.