Electrical, Optical and Structural Analysis Depending on Concentration of TiO Thin Films Produced via Dip-Coating Method
dc.contributor.author | Tezel, Necmi Serkan | |
dc.contributor.author | Meydaneri Tezel, Fatma | |
dc.contributor.author | Kariper, Afşin | |
dc.date.accessioned | 2025-01-21T14:26:58Z | |
dc.date.available | 2025-01-21T14:26:58Z | |
dc.date.issued | 2022 | |
dc.description.abstract | In this study, TiO thin films were produced on glass lamels by Dip-Coating method at 2 times 5 seconds into solutions prepared at different concentrations (A1:0.8 Molar, A2:1,25x10-2 Molar, A3:2, 5x10-3 Molar) and these films were annealed at 500 °C. In general, these films with an amorphous structure have 2? = 25,5° (1 0 1) a spread was observed at the Miller orientation peak. With a decrease in the concentration, small grains have changed from a spherical shape to an ellipse of larger and smaller sizes. While there is a lot of reflectivities in the UV region, their transmittance values are quite high in the visible region of 400-700 nm. The energy band gap values of TiO thin films with A1, A2 and A3 concentrations were calculated as Eg = 3.52 eV; 2.60 eV and 3.03 eV, respectively. The increase in the electrical resistivity values with increasing concentration is evidence that the exhibits a typical metal-like behavior due to the particular conductivity in the oxide sub-layers. | |
dc.description.abstract | Bu çalışmada, farklı derişimlerde (A1: 0,8 Molar, A2: 1,25x10-2 Molar, A3: 2,5x10-3 Molar) hazırlanan çözeltilere 2 şer kez 5 saniye daldırma metodu (Dip-coating) ile cam lameller üzerine TiO ince filmleri üretilmiştir ve üretilen bu filmler 500 °C’ de tavlanmıştır. Genel olarak amorf yapıya sahip bu filmlerin 2? = 25,5° (1 0 1) Miller yönelim pikinde yayılma görülmüştür. Derişimin azalması ile küçük taneli yapılar, küresel şekilden daha irili ufaklı elipse doğru değişim göstermiştir. UV bölgede yansıtma özelliği oldukça fazla iken 400-700 nm görünür bölgede ise geçirgenlikleri oldukça fazladır. A1, A2 ve A3 derişimli TiO ince filmlerin enerji bant aralığı değerleri sırası ile Eg = 3,52 eV; 2,60 eV ve 3,03 eV olarak hesaplanmıştır. Derişimin artması ile elektriksel özdirenç değerlerinin artması, oksit alt tabakalardaki özel iletkenlikten dolayı metal benzeri tipik bir davranış gösterdiğinin kanıtıdır. | |
dc.identifier.dergipark | 1070390 | |
dc.identifier.doi | 10.29137/umagd.1070390 | |
dc.identifier.issn | 1308-5514 | |
dc.identifier.issue | 2-590 | |
dc.identifier.startpage | 603 | |
dc.identifier.uri | https://dergipark.org.tr/tr/download/article-file/2241529 | |
dc.identifier.uri | https://dergipark.org.tr/tr/pub/umagd/issue/71387/1070390 | |
dc.identifier.uri | https://doi.org/10.29137/umagd.1070390 | |
dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/20.500.12587/20009 | |
dc.identifier.volume | 1 | |
dc.language.iso | tr | |
dc.publisher | Kırıkkale Üniversitesi | |
dc.relation.ispartof | Uluslararası Mühendislik Araştırma ve Geliştirme Dergisi | |
dc.relation.publicationcategory | Makale - Ulusal Hakemli Dergi | |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
dc.snmz | KA_20241229 | |
dc.subject | Thin film | |
dc.subject | Dip-coating | |
dc.subject | TiO2 | |
dc.subject | Electrical Resistivity | |
dc.subject | Optical Properties | |
dc.subject | Egap | |
dc.subject | İnce Tabaka | |
dc.subject | Daldırma-Kaplama | |
dc.subject | TiO2 | |
dc.subject | Elektriksel Direnç | |
dc.subject | Optik Özellikler | |
dc.subject | Egap | |
dc.subject | Electrical Engineering | |
dc.title | Electrical, Optical and Structural Analysis Depending on Concentration of TiO Thin Films Produced via Dip-Coating Method | |
dc.title.alternative | Daldırma Metodu ile Üretilen TiO İnce Filmlerin Derişime Bağlı Elektriksel, Optik ve Yapısal Analizi | |
dc.type | Article |