Electrical, Optical and Structural Analysis Depending on Concentration of TiO Thin Films Produced via Dip-Coating Method

dc.contributor.authorTezel, Necmi Serkan
dc.contributor.authorMeydaneri Tezel, Fatma
dc.contributor.authorKariper, Afşin
dc.date.accessioned2025-01-21T14:26:58Z
dc.date.available2025-01-21T14:26:58Z
dc.date.issued2022
dc.description.abstractIn this study, TiO thin films were produced on glass lamels by Dip-Coating method at 2 times 5 seconds into solutions prepared at different concentrations (A1:0.8 Molar, A2:1,25x10-2 Molar, A3:2, 5x10-3 Molar) and these films were annealed at 500 °C. In general, these films with an amorphous structure have 2? = 25,5° (1 0 1) a spread was observed at the Miller orientation peak. With a decrease in the concentration, small grains have changed from a spherical shape to an ellipse of larger and smaller sizes. While there is a lot of reflectivities in the UV region, their transmittance values are quite high in the visible region of 400-700 nm. The energy band gap values of TiO thin films with A1, A2 and A3 concentrations were calculated as Eg = 3.52 eV; 2.60 eV and 3.03 eV, respectively. The increase in the electrical resistivity values with increasing concentration is evidence that the exhibits a typical metal-like behavior due to the particular conductivity in the oxide sub-layers.
dc.description.abstractBu çalışmada, farklı derişimlerde (A1: 0,8 Molar, A2: 1,25x10-2 Molar, A3: 2,5x10-3 Molar) hazırlanan çözeltilere 2 şer kez 5 saniye daldırma metodu (Dip-coating) ile cam lameller üzerine TiO ince filmleri üretilmiştir ve üretilen bu filmler 500 °C’ de tavlanmıştır. Genel olarak amorf yapıya sahip bu filmlerin 2? = 25,5° (1 0 1) Miller yönelim pikinde yayılma görülmüştür. Derişimin azalması ile küçük taneli yapılar, küresel şekilden daha irili ufaklı elipse doğru değişim göstermiştir. UV bölgede yansıtma özelliği oldukça fazla iken 400-700 nm görünür bölgede ise geçirgenlikleri oldukça fazladır. A1, A2 ve A3 derişimli TiO ince filmlerin enerji bant aralığı değerleri sırası ile Eg = 3,52 eV; 2,60 eV ve 3,03 eV olarak hesaplanmıştır. Derişimin artması ile elektriksel özdirenç değerlerinin artması, oksit alt tabakalardaki özel iletkenlikten dolayı metal benzeri tipik bir davranış gösterdiğinin kanıtıdır.
dc.identifier.dergipark1070390
dc.identifier.doi10.29137/umagd.1070390
dc.identifier.issn1308-5514
dc.identifier.issue2-590
dc.identifier.startpage603
dc.identifier.urihttps://dergipark.org.tr/tr/download/article-file/2241529
dc.identifier.urihttps://dergipark.org.tr/tr/pub/umagd/issue/71387/1070390
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.29137/umagd.1070390
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.12587/20009
dc.identifier.volume1
dc.language.isotr
dc.publisherKırıkkale Üniversitesi
dc.relation.ispartofUluslararası Mühendislik Araştırma ve Geliştirme Dergisi
dc.relation.publicationcategoryMakale - Ulusal Hakemli Dergi
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.snmzKA_20241229
dc.subjectThin film
dc.subjectDip-coating
dc.subjectTiO2
dc.subjectElectrical Resistivity
dc.subjectOptical Properties
dc.subjectEgap
dc.subjectİnce Tabaka
dc.subjectDaldırma-Kaplama
dc.subjectTiO2
dc.subjectElektriksel Direnç
dc.subjectOptik Özellikler
dc.subjectEgap
dc.subjectElectrical Engineering
dc.titleElectrical, Optical and Structural Analysis Depending on Concentration of TiO Thin Films Produced via Dip-Coating Method
dc.title.alternativeDaldırma Metodu ile Üretilen TiO İnce Filmlerin Derişime Bağlı Elektriksel, Optik ve Yapısal Analizi
dc.typeArticle

Dosyalar